大面積碳化硅陶瓷膜層化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)
光刻機等集成電路關(guān)鍵制造裝備中某些高性能光學(xué)元件對材料制備有著苛刻的要求,不僅要求材料具有高的穩(wěn)定性,還需滿足某些特定的光學(xué)性能要求。反應(yīng)燒結(jié)碳化硅經(jīng)拋光后其面型精度高,但是該材料是由碳化硅和游離硅組成的兩相材料,在研磨拋光等過程各相的去除速率不一致,無法達到更高的面型精度,因此無法滿足特定光學(xué)部件性能要求。
采用反應(yīng)燒結(jié)碳化硅基體結(jié)合化學(xué)氣相沉積碳化硅(CVDSiC)膜層的方法制備高性能反射鏡,通過優(yōu)化先驅(qū)體種類、沉積溫度、沉積壓力、反應(yīng)氣體配比、氣體流場、溫度場等關(guān)鍵工藝參數(shù),可實現(xiàn)大面積、均勻CVDSiC膜層的制備,使反射鏡鏡面精度可接近國外同類產(chǎn)品性能指標。
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